高纯氧化镁的水分标准通常是非常严格的，因为水分含量可能影响其在多个应用领域中的性能，包括催化、电子、制药、陶瓷等行业。水分标准会根据不同级别的氧化镁及其应用场景有所差异，但一般而言：

对于大多数高纯度应用，水分含量要求在极低水平，通常不超过0.1%或更低。在某些高端应用中，如半导体制造，水分含量的要求可能更加严格，需控制在ppm（百万分之一）级别。

国家或行业标准，如HGT 2573-2012高纯氧化镁的国家标准，可能会具体规定水分以及其他杂质的最大允许含量。虽然我未直接找到该标准中关于水分的具体数值，但根据一般行业惯例和对高纯材料的质量要求，水分控制在极低水平是常态。

实际操作中，水分控制也是生产和储存过程中的一个重要环节，通常会采取干燥处理、密封包装和防潮措施来确保产品在运输和储存过程中的水分稳定。

要获得确切的水分含量标准，最好是直接查阅相关的国家标准文件或联系高纯氧化镁的供应商，以获得针对特定产品和应用的详细规格要求。