高纯氧化镁作为一种高品质的化学原料，其纯度是其关键特性之一，通常要求杂质含量极低。具体存在的杂质种类及其含量会根据生产方法、原材料质量控制以及后续精炼步骤的不同而有所差异。常见的杂质可能包括但不限于以下几种：

钙（Ca）：在一些原料或生产过程中可能引入的杂质。

铁（Fe）：即使是微量，也可能影响氧化镁的颜色或某些应用性能。

硅（Si）：作为普遍存在于自然界中的元素，可能会在开采或处理过程中带入。

铝（Al）：尤其在使用含铝原料或过程中引入。

重金属（如铅Pb、镉Cd）：严格控制，因其毒性，含量需极低。

氯化物（Cl⁻）和硫酸盐（SO₄²⁻）：可能来源于水或原料中的矿物质。

水分（H₂O）：虽然不是传统意义上的杂质，但在某些应用中水分含量也需严格控制。

关于含量，高纯氧化镁产品的杂质含量标准可以非常严格，比如：

对于某些高端应用，总杂质含量可能要求低于0.1%甚至更低。

特定杂质如重金属含量可能要求在ppm（百万分之一）级别，例如铅（Pb）<1 ppm，镉（Cd）<1 ppm等。

某些情况下，对特定杂质有更严格的限制，如半导体或光学应用中可能要求极低的铁含量。

具体含量需要参考产品规格书或制造商提供的证书（如COA，Certificate of Analysis），因为这直接关系到氧化镁的适用领域和性能。不同的行业标准或客户要求可能会有不同的杂质限量标准。